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磷化铟
POST TIME:2019-01-06 00:48编辑:摆渡化学
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产品名称:磷化铟
CAS:22398-80-7
别名:磷化铟;磷化铟晶体INP;磷化铟,99.9999%(METALSBASIS);磷化铟,多晶块,99.99%(METALSBASIS);磷化铟,99.999%(METALSBASIS);磷化铟,多晶块;磷化铟(III);磷化铟(III),99.9999%(METALSBASIS)
英文名:INDIUM PHOSPHIDE
熔点
1070°C
密度
4,787 g/cm
3
形态
pieces
水溶解性
Insoluble in water.
Merck
14,4953
CAS 数据库
22398-80-7(CAS DataBase Reference)
化学性质
具有沥青光泽的深灰色晶体。熔点1070℃。熔点下离解压为2.75 Mpa。极微溶于无机酸。介电常数:10.8。电子迁移率:约4600 cm
2
/V?s。空穴迁移率:约150 cm
2
/V?s。具有半导体的特性。
用途
用作半导体材料,用于光纤通讯技术,需要1.1~1.6μm范围内的光源和接受器。在 InP衬底上生长In-GaAsP双异质结激光器既能满足晶格匹配,又能满足波长范围的要求。
生产方法
用高压单晶炉制备磷化铟单晶是最主要的方法,并用掺等电子杂质的方法降低晶体的位错密度。而气相外延,多采用In-PCl3-H2系统的歧化法,在该工艺中用铟(99.9999%)和三氯化磷(99.999%)之间的反应来生长磷化铟层。
气相外延将石英反应管放在双温区电炉中,已净化的高纯氢气经计量通入,氢气也用来稀释三氯化磷,此时彭泡器保持在0℃,通过反应管内的氢气线速度为14 cm/min。外延生长分为诱个阶段进行。
在第一阶段,将盛有铟的石英舟放在电炉中源区,通入氢气并加热到700~850℃,再用氢气将三氯化磷引入,在铟源上方被还原成磷蒸气和氯化氢。镉化氢与铟反应生成一氯化铟蒸气在管中迁移。磷溶解在铟中直至饱和为止。
在第二阶段,铟源保持在原位置不加热,单晶衬底放在电炉的第二加温区后,在氢气氛下加热到600~750℃。首先用氢气将三氯化磷引入到管内对衬底进行气相腐蚀,清洗衬底表面。再将氢气直接引入反应管,并把源加热到它的过饱和温度(在操作中此温度比衬底晶体的温度高100℃)。然后通过氢气鼓泡将三氯化磷引入,这时磷蒸气与在源区生成的一氯化铟反应,在衬底上淀积生长出磷化铟层。当外延生长完成后,向系统中通入纯氢气,将两个温区冷却到室温,取出产物,制得磷化铟成品。
类别
有毒物品
可燃性危险特性
高热产生有毒磷氧化物烟雾
储运特性
库房通风低温干燥
灭火剂
干粉、泡沫、砂土、二氧化碳, 雾状水
职业标准
TWA 0.1 毫克 (铟)/立方米
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呃,好文章总是百看不厌,耐人寻味,您也可以收藏分享哟 :)
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